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ALD原(yuan)子(zi)層沉積(ji)設備(bei)主要應(ying)用于集成電(dian)路、微電(dian)子(zi)、量子(zi)點、新能源等產業。
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30分鐘內給予技(ji)術咨詢答(da)復
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應用范圍:
ALD原子層沉積設備主要應用于集成電(dian)路(lu)、微電(dian)子、量子點(dian)、新能源等產業。
產品特點:
■ 采用全自動操(cao)作系統,操(cao)作簡單;
■ 可控制膜層厚度,解決整體(ti)均勻性;
■ 針對(dui)不(bu)規則樣(yang)品(pin),同樣(yang)擁有很好的包裹性(xing)。
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