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依托半導體高端設備研制,通過半導體高端設備、真空技術兩個板塊,建立電子裝備的產業化經營格局
ALD原子(zi)層沉積(ji)設備主(zhu)要應用于(yu)集成電(dian)路、微電(dian)子(zi)、量子(zi)點、新(xin)能源等產業(ye)。
磁控濺射鍍膜系(xi)統廣(guang)泛應用于(yu)消費電子、芯片制程、光(guang)伏等(deng)眾多領域,可制備金屬膜、絕緣(yuan)薄膜、光(guang)學(xue)薄膜、磁性薄膜等(deng)等(deng)。
主要(yao)用于光伏(fu)行業、功(gong)能玻璃(li)及顯示行業。
主(zhu)要用于消費電子(zi)、功能薄膜、光伏等(deng)產業。
主要應用于高(gao)校、科(ke)研院所的教學、科(ke)研實驗以(yi)及生產(chan)型企(qi)業前(qian)期探索(suo)性(xing)實驗及開發新產(chan)品(pin)等。可(ke)用來制備金(jin)屬膜、有機膜及掃(sao)描電鏡制樣等。
主(zhu)要應(ying)用(yong)于鈣鈦(tai)礦太陽能電(dian)池、OLED、鋰電(dian)池、金屬電(dian)極(ji)薄膜等產業研(yan)發的專用(yong)設備(bei)(bei),廣泛應(ying)用(yong)于高校、科研(yan)院所的不同(tong)材料薄膜制備(bei)(bei)研(yan)究,也可用(yong)于生產線(xian)前期(qi)工藝(yi)試驗等。
主要應用(yong)于新型材料的升華提純、電子(zi)陶瓷產(chan)品的預燒結、退(tui)火等領(ling)域(yu),也可作為CVD鍍(du)膜(mo)設(she)備使用(yong),可以外置(zhi)等離子(zi)體發生裝(zhuang)置(zhi)。
主要應(ying)用在半(ban)導體(ti)晶(jing)(jing)體(ti)材料的(de)(de)生長工藝過程中(zhong),對石(shi)英坩堝內壁(bi)鍍碳(tan)處理,能夠(gou)有(you)效(xiao)阻隔高(gao)溫(wen)溶體(ti)與石(shi)英坩堝的(de)(de)反應(ying),有(you)利于完整、高(gao)質量單晶(jing)(jing)體(ti)的(de)(de)生產。