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這里有您關心的企業動態與行業資訊電阻蒸發鍍膜機（Resistance Evaporation Coater）,利用膜材加熱裝置，讓膜材原子進行熱運動逸出膜材表面，在真空環境下，沉積到樣品表面，如果加入帶有動能離子的話，射擊靶材，將靶材原子“碰撞”出來，產生離子濺射效應。濺射出來的離子會沉積到樣品表面，形成密度更大的靶材相關的薄膜，這是真空電阻蒸發濺射鍍膜設備中的鍍膜技術。
磁控濺射鍍膜機（Magnetron Sputtering Coater）,由真空專用不銹鋼腔室、三只3英寸圓形平面磁控靶；直流、射頻濺射電源三臺。機械泵＋分子泵高真空系統、旋轉、加熱基片臺（室溫至300±1℃可調可控）、機架、氣路、水路、邏輯按鈕控制及安全保護等組成。該設備選配電源可具備三靶共濺射功能，實現一機多用，可開發納米級單層或多層的導電膜、半導體膜、絕緣膜等。整機結構緊湊、占地小、操作方便、抽真空速度快。
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